氣相沉積技術是利用氣相中發生的物理、化學過程,在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術按照成膜機理,可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。
1、化學氣相沉積(CVD):將工件置于反應室中,抽真空并加熱至900~1100℃。如要涂覆TiC層,則將鈦以揮發性氯化物(如TiCl4)與氣體碳氫化合物(如CH4)一起通入反應室內,這時就會在工表面發生化學反應生成TiC,并沉積在工件表面形成6~8μm厚的覆蓋層。工件經氣相沉積鍍覆后,再進行淬火,回火處理,表面硬度可達到2000~4000HV。
2、物理氣相沉積(PVD):物理氣相沉積是通過蒸發,電離或濺射等過程,產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍,真空濺射和離子鍍三種,目前應用較廣的是離子鍍。離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電,使鍍料氣化蒸發離子化,離子經電場加速,以較高能量轟擊工件表面,此時如通入CO2,N2等反應氣體,便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層,硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右,且覆蓋層附著力強,適用于高速鋼工具,熱鍛模等。
氣相沉積實驗爐為沉積爐主體內有加熱室,水冷電極,測溫熱電偶,是處理工件的核心部分。
氣相沉積實驗爐產品優勢以及特點:
氣相沉積實驗爐采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;
氣相沉積實驗爐采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
氣相沉積實驗爐采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
氣相沉積實驗爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。